ACM Research Inc是一家总部位于美国的公司。公司从事开发、制造和销售单晶圆湿式清洁设备,用于半导体制造商在制造集成电路或芯片的许多制造步骤中去除颗粒、污染物和其他随机缺陷,以提高产品产量。该公司提供空间交替相移,利用超声波的交替相将超声波能量传递到微观水平的平面和图案晶圆表面,同时及时激活气泡振荡技术,为传统的二维和三维图案晶圆在工艺节点上提供有效,无损伤的清洁。
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